Nilai target kelembaban relatif di ruangan bersih semikonduktor (FAB).

Nilai target kelembaban relatif dalam ruangan bersih semikonduktor (FAB) adalah sekitar 30 hingga 50%, sehingga memungkinkan margin kesalahan yang sempit sebesar ±1%, seperti pada zona litografi – atau bahkan lebih kecil lagi pada pemrosesan ultraviolet jauh (DUV) zona – sementara di tempat lain dapat dilonggarkan hingga ±5%.
Pasalnya, kelembapan relatif memiliki sejumlah faktor yang dapat menurunkan kinerja ruangan bersih secara keseluruhan, antara lain:
1. Pertumbuhan bakteri;
2. Kisaran kenyamanan suhu ruangan bagi staf;
3. Muatan elektrostatis muncul;
4. Korosi logam;
5. Kondensasi uap air;
6. Degradasi litografi;
7. Penyerapan air.

Bakteri dan kontaminan biologis lainnya (jamur, virus, jamur, tungau) dapat tumbuh subur di lingkungan dengan kelembapan relatif lebih dari 60%. Beberapa komunitas bakteri dapat tumbuh pada kelembaban relatif lebih dari 30%. Perusahaan percaya bahwa kelembapan harus dikontrol pada kisaran 40% hingga 60%, sehingga dapat meminimalkan dampak bakteri dan infeksi saluran pernapasan.

Kelembapan relatif pada kisaran 40% hingga 60% juga merupakan kisaran sedang untuk kenyamanan manusia. Kelembapan yang terlalu tinggi dapat membuat orang merasa pengap, sedangkan kelembapan di bawah 30% dapat membuat orang merasa kering, kulit pecah-pecah, ketidaknyamanan pernapasan, dan ketidakbahagiaan emosional.

Kelembapan yang tinggi sebenarnya mengurangi akumulasi muatan elektrostatik pada permukaan ruang bersih – suatu hasil yang diinginkan. Kelembapan rendah ideal untuk akumulasi muatan dan sumber pelepasan muatan listrik statis yang berpotensi merusak. Ketika kelembapan relatif melebihi 50%, muatan elektrostatis mulai menghilang dengan cepat, namun bila kelembapan relatif kurang dari 30%, muatan tersebut dapat bertahan lama pada isolator atau permukaan yang tidak dibumikan.

Kelembapan relatif antara 35% dan 40% dapat digunakan sebagai kompromi yang memuaskan, dan ruangan bersih semikonduktor umumnya menggunakan kontrol tambahan untuk membatasi akumulasi muatan elektrostatis.

Kecepatan banyak reaksi kimia, termasuk proses korosi, akan meningkat seiring dengan meningkatnya kelembaban relatif. Semua permukaan yang terkena udara di sekitar ruangan bersih akan cepat rusak.